產品簡介
微波等離子去膠機NE-MW10可用于批量晶圓去膠和清除殘膠，專為實驗室和研發使用而設計， 設備使用2.45GHz微波等離子源，在真空腔內將氧氣起輝激發至高能量的等離子體態后轟擊樣品表面的光刻膠、聚酰亞胺等有機物，高能的氧等離子體可破壞碳碳鍵，從而將吸附的有機雜質反應成氣態脫離表面，也可在樣品表面形成羥基，以實現清潔和活化的目的。
微波放電是一種在低氣壓下形成高密度等離子體的技術，它具有無極放電、高密度、高電離度、高活性等特點，不產生自偏壓，不會對CMOS，MEMS等敏感器件造成損傷。
產品參數
| 型號 | NE-MW10 |
| 腔體尺寸 | Ф170*250(D) |
| 腔體容量 | 6L |
| 處理層數 | 1層 |
| 等離子發生器頻率 | 2.45GHZ |
| 等離子發生器功率 | 600W |
| 控制系統 | PLC+HMI |
| 真空泵 | 干泵/油泵（可選） |
| 輸入電壓 | 220V |
| 外形尺寸 | 465*415*480 |
產品應用
去除光刻膠
聚酰亞胺刻蝕
有機薄膜去除
樣品的活化和清潔處理
光刻后的殘膠去除
MEMS制造中去除犧牲層
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