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        等離子清洗、激光清洗、紫外線/臭氧清潔對比

        Apr. 22, 2024

        干法清洗方式近年來得到了快速發展,并且該方法不需要液體參與,可以精確控制清洗位置,并且清洗后不會在清洗表面引入雜質,可以反復對表面清洗。干法清洗廣泛應用在各種表面清洗,主要包括:激光清洗、紫外線/臭氧清潔以及等離子清洗等。

        (1)激光清洗

        激光清洗具有非接觸、環保的特點,是一種新型的清洗技術。激光清洗是借助激光輻射下的蒸發、振動、燒蝕和沖擊波的綜合作用,去除表面的污染物,但會損壞基材。

        (2)紫外線/臭氧清洗

        紫外線/臭氧清洗技術可以使用產生的強氧化性粒子去除表面的碳氫化合物,在紫外線與臭氧作用下,表面的碳氫化合物被氧化為揮發性氣體,實現了表面有機污染物的無損去除。

        (3)等離子清洗

        等離子體清洗過程主要借助產生的活性粒子與表面有機污染物進行反應,在等離子體清洗過程中涉及到活性粒子的物理碰撞及化學反應兩個過程。物理碰撞反應是借助具有能量的活性粒子與吸附的污染物碰撞,當能量大于分子間吸附力時,碳氫化合物脫離基體表面。等離子體清洗過程中的化學反應涉及到:活性粒子可以打斷吸附的碳氫化合物的鍵,生成一些小分子,脫離表面。等離子體也會加熱基體,降低分子間分子吸附作用。等離子體清洗技術能夠實現基體表面污染物的無損去除,具有良好的應用前景。

        上述的清洗方式的優缺點如表1-1所示。

        激光清洗、紫外線/臭氧清潔以及等離子清洗方式比較

        類型特點優點缺點
        激光清洗污染物吸收激光能量后直接汽化揮發清洗效率高;無液體;遠程操控表面污染物吸收能量產生等離子;形成沖擊波,影響膜層
        紫外線/臭氧清洗主要是利用臭氧強氧化性來清洗殘留的有機物和有機溶劑

        無殘留;無二次污染;處理時間快

        微粒與無機污染物去 除效果差
        等離子清洗利用高能粒子和活性粒子的轟擊或活化作用去除污染物無化學試劑;操作簡 單;清洗裝置結構復雜需要工藝氣體

        綜上所述,激光清洗、紫外線/臭氧清潔和等離子清洗各有其獨特的優勢和應用場景。在選擇合適的清洗技術時,需要根據具體的清洗需求、工件特性以及成本考慮等因素進行綜合評估。


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