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        低溫射頻 氧等離子清洗機NE-OP20F
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        產品簡介

        氧等離子體清洗機是一種表面清潔及親水處理裝置。使用時,真空腔體內通入一定量的氧氣,通過射頻電源施加電壓起輝產生帶有高能量的氧等離子體,這些氧等離子體轟擊樣品表面即可達到清潔的作用,主要應用于樣品表面清潔、活化、鍵合、去膠、金屬還原、簡單刻蝕、表面有機物去除、親水改性實驗、鍍膜前處理、涂層前處理等,免維護,無需任何耗材。另外氧等離子體附著在樣品表面,會在表面形成含氧官能團如羥基(-OH)、羧基(-COOH)和羰基(-C=O)等,這些官能團增加了材料表面的極性,可一定程度的改善表面的親水性。

        產品參數

        型號NE-OP20F
        功率0-300W可調
        頻率射頻13.56MHz
        腔體材質316 鏡面不銹鋼
        腔體尺寸380(L)*375(D)*160(H)mm
        腔體容積22.8L
        適用產品尺寸300*300mm
        極限真空度1Pa
        控制方式4.3寸觸摸屏+PLC
        氣路數量兩路(氧氣等)
        外形尺寸650mm(L)×575mm(W) ×635 mm(H)
        輸入電壓220V


        產品應用

        01

        硅片親水處理

        硅片親水處理

        02

        PDMS鍵合

        PDMS鍵合

        03

        ITO/FTO玻璃親水處理

        ITO/FTO玻璃親水處理

        04

        含氧官能團引入

        含氧官能團引入

        05

        氧等離子刻蝕

        氧等離子刻蝕

        06

        有機物清洗

        有機物清洗

        應用案例

        產品推薦

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